AltiSurf© 530

AltiSurf© 530 byl vytvořen speciálně pro nanotechnologické aplikace. Disponuje funkcí automatického vyrovnání waferů nebo vakuového upínání.

Produkt

Stejně, jako ostatní 3D profiloměry řady AltiSurf©, i tato stanice zahrnuje nejnovější bodové nebo liniové senzorové technologie a díky velkému měřicímu prostoru 300 x 300 mm najde uplatnění ve výzkumu, či ve výrobě

  • měří každý povrch (drsné, transparentní, černé, leštěné,...)
  • velký výběr rozsahů měření a technologií (konfokální, interferometrická, kontaktní)
  • maximální měřicí prostor 300 x 300 x 300 mm (možnost v Z 200 nebo 300 mm)
  • rozsah snímače od 100 µm do 25 mm
  • rozlišení v Z až 2 nm / laterální rozlišení 0,7 µm
  • automatické přepínání mezi kamerou a 2 dalšími senzory
  • jednoduché uživatelské rozhraní s automatiockou tvorbou protokolů
stáhnout dokumentaci v pdf