AltiSurf© 530
AltiSurf© 530 byl vytvořen speciálně pro nanotechnologické aplikace. Disponuje funkcí automatického vyrovnání waferů nebo vakuového upínání.
Stejně, jako ostatní 3D profiloměry řady AltiSurf©, i tato stanice zahrnuje nejnovější bodové nebo liniové senzorové technologie a díky velkému měřicímu prostoru 300 x 300 mm najde uplatnění ve výzkumu, či ve výrobě
- měří každý povrch (drsné, transparentní, černé, leštěné,...)
- velký výběr rozsahů měření a technologií (konfokální, interferometrická, kontaktní)
- maximální měřicí prostor 300 x 300 x 300 mm (možnost v Z 200 nebo 300 mm)
- rozsah snímače od 100 µm do 25 mm
- rozlišení v Z až 2 nm / laterální rozlišení 0,7 µm
- automatické přepínání mezi kamerou a 2 dalšími senzory
- jednoduché uživatelské rozhraní s automatiockou tvorbou protokolů